Siemens и NVIDIA ускорили вычислительную литографию до 12 раз
Библиотека NVIDIA cuLitho встроена в программный комплекс Calibre, и ключевые расчёты литографии ускорились не менее чем в 10 раз, а по отдельным задачам до 17. Это должно сделать применимой криволинейную коррекцию на полном кристалле для литографии с высокой числовой апертурой.
Siemens объявила о заметном продвижении в работе с NVIDIA по ускорению вычислительной литографии. Встроив библиотеку NVIDIA cuLitho из набора CUDA-X для вычислительной литографии с ускорением на графическом процессоре в производственный программный комплекс Calibre, Siemens позволяет изготовителям полупроводниковых изделий преодолеть ограничение по времени расчёта при формировании передовых топологических рисунков и тем делает выпуск микросхем для искусственного интеллекта следующего поколения осуществимым.
Узкое место в формировании рисунка
По мере того как отрасль настойчиво движется к передовым технологическим нормам, сложность литографического рисунка растёт стремительно. Обычная коррекция оптической близости и приёмы вычислительной литографии упираются в «стену времени расчёта». Переход к литографии в глубоком ультрафиолете с высокой числовой апертурой и необходимость передовых криволинейных рисунков — например, при обратной литографии — требуют огромных вычислительных ресурсов. Без ускорения эти необходимые приёмы часто слишком медленны для применения на полном кристалле в производственном масштабе, и инженерным группам приходится выбирать между глубиной оптимизации и сроками проекта. Отсюда риск литографических «горячих точек» и уменьшение технологических запасов, что способно сказаться на выходе годных у самых передовых вычислительных микросхем и микросхем памяти для ИИ.
Ускорение расчётов на графическом процессоре
Siemens и NVIDIA превращают эту трудность в возможность. Ускорив ключевые расчёты литографического моделирования не менее чем в 10 раз, совместная работа позволяет изготовителям проводить более полную оптимизацию и находить возможные «горячие точки» до выпуска фотошаблонов.
«Вычислительная литография традиционно была одной из самых ресурсоёмких ступеней на пути от проекта к производству, — сказал Анкур Гупта, исполнительный вице-президент направления средств проектирования микросхем Siemens. — Соединив технологию Calibre, пригодную для окончательной проверки, с ускорением на графических процессорах NVIDIA, мы даём заказчикам возможность применять передовые приёмы формирования рисунка вроде криволинейной обратной литографии в полном масштабе. Речь не только о скорости: речь о точности, которая нужна инфраструктуре ИИ следующего поколения».
«Микросхемы следующего поколения доводят сложность производства до предела, и вычислительная литография нужна как никогда, — сказал Тим Коста, вице-президент и генеральный директор направления промышленной и вычислительной инженерии NVIDIA. — Принося ускорение NVIDIA cuLitho в Calibre от Siemens, мы позволяем инженерам браться за всё более замысловатые рисунки и просчитывать более обширные оптимизации, нужные для выпуска самых передовых микросхем в мире».
Измеримая отдача для изготовителей микросхем и фотошаблонов
Совместная работа даёт изготовителям полупроводниковых изделий и фотошаблонов измеримый прирост по ключевым этапам вычислительной литографии. Проверенные инженерные данные подтверждают ускорение моделирования от не менее чем 10 до 17 раз на ключевых задачах, что помогает сделать криволинейный рисунок на полном кристалле применимым в производстве с высокой числовой апертурой.
Сокращая время расчёта, изготовители успевают сделать больше проходов за то же время, раньше находить литографические «горячие точки» и улучшать технологические запасы до выпуска фотошаблонов. Такой быстрый оборот помогает скорее подготовить производство и поддерживает вывод новых микросхем для ИИ.